申請號: 201720970674.3

申請日: 2017.08.04

國家/省市:中國北京(11)

主分類號:B24B 1/00(2006.01)

授權公告號:207043868U

授權公告日:2018.02.27

分類號: B24B 1/00(2006.01)

申請人: 北京交通大學; 江西德義半導體科技有限公司

發明人: 李建勇; 樊文剛; 曹建國; 劉月明; 聶蒙; 朱朋哲; 易德福

代理人: 黃曉軍

代理機構:北京市商泰律師事務所(11255)

申請人地址:北京市海淀區西直門外上園村3號

摘要： 本實用新型提供了一種磁流變平面拋光裝置，涉及超精密加工技術領域，包括支架，支架頂端設有平臺，平臺上固定有旋轉座，旋轉座上設有拋光盤，旋轉座連接有拋光盤驅動機構；拋光盤的上方設有工件夾持機構，工件夾持機構設有夾盤；平臺下方設有磁場發生機構的轉盤上以所述轉盤的中心為起點，沿等速螺線均勻設置有若干永磁鐵。本實用新型將永磁鐵沿等速螺線以磁極方向相反的方式相間排布在轉盤上，在拋光盤、待加工工件和永磁鐵的旋轉復合作用下，使磁流變拋光液形成柔性拋光面，磁流變拋光液中的磨料在脈沖磁場的作用下實時快速更新自銳，提高了磁流變拋光效率，降低了拋光液中磨粒的磨損率，延長了磁流變拋光液的使用壽命，提高了拋光效率和質量。

主權利要求

一種磁流變平面拋光裝置，其特征在于：包括支架(1)，所述支架(1)的頂端設有平臺(9)，所述平臺(9)上固定有旋轉座(10)，所述旋轉座(10)上設有拋光盤(3)，所述旋轉座(10)連接有拋光盤驅動機構(4)；所述拋光盤(3)的上方設有工件夾持機構(5)，所述工件夾持機構(5)包括有夾盤(507)，所述夾盤(507)位于所述拋光盤(3)上方；所述平臺(9)的下方設有磁場發生機構(6)，所述磁場發生機構(6)包括有轉盤(7)，所述轉盤(7)位于所述拋光盤(3)的下方，所述轉盤(7)上以所述轉盤(7)的中心為起點，沿等速螺線均勻設置有若干永磁鐵(8)。