申請(qǐng)?zhí)? 201380036902.4
       申請(qǐng)日: 2013.07.08
       國(guó)家/省市: 美國(guó)(US)
       公開(kāi)號(hào): 104837593A
       公開(kāi)日: 2015.08.12
       主分類號(hào): B24D 7/06(2006.01)
       分類號(hào): B24D 7/06(2006.01); B24D 3/14(2006.01); C09K 3/14(2006.01)
       申請(qǐng)人: 3M創(chuàng)新有限公司
       發(fā)明人: 青木亨; 陽(yáng)田彰; 立原孝之
       代理人: 顧紅霞 彭會(huì)
       代理機(jī)構(gòu): 11112
       申請(qǐng)人地址: 美國(guó)明尼蘇達(dá)州
       優(yōu)先權(quán): JP2012-158007

       摘要： 本發(fā)明提供了一種用于研磨玻璃、陶瓷和金屬材料的表面的研磨墊，所述研磨墊設(shè)置有：基底層；和研磨層，所述研磨層設(shè)置在所述基底層的第一表面?zhèn)壬喜⑶野?a href='/news/search/key/%25E7%25A3%25A8%25E6%2596%2599.html' target='_blank'>磨料，并且所述研磨層具有多個(gè)基體部分，所述基體部分相互分開(kāi)地布置在所述基底層上；柱狀或截頭形末端部分，其相互分開(kāi)地布置在所述基體部分上；以及一組凹槽，其包含設(shè)置在所述基體部分之間的多個(gè)凹槽部分，使得所述基底層被暴露，其中所述凹槽中的每一個(gè)凹槽相互交叉。

       主權(quán)利要求 1.一種用于研磨玻璃、陶瓷和金屬材料的表面的研磨墊；所述研磨墊包括：基底層；和研磨層，其設(shè)置在所述基底層的第一表面?zhèn)壬喜⑶野チ?；并且所述研磨層包括：多個(gè)基體部分，其相互分開(kāi)地布置在所述基底層上；柱狀或截頭形末端部分，其相互分開(kāi)地布置在所述基體部分上；以及一組凹槽，其包含設(shè)置在所述基體部分之間的多個(gè)凹槽部分，使得所述基底層被暴露，其中所述凹槽中的每一個(gè)凹槽相互交叉。